Des chercheurs chinois ont utilisé la cryo-tomographie électronique pour reconstruire en 3D le comportement des polymères photo-résistants dans un film liquide, étape clé du développement des circuits intégrés. Cette méthode révèle pour la première fois l’organisation et les enchevêtrements moléculaires au niveau de l’interface air-liquide, responsables de nombreux défauts de motifs. En optimisant ces interactions, les auteurs ont supprimé plus de 99 % des contaminations sur des plaquettes de 12 pouces, ouvrant la voie à une lithographie industrielle plus précise et compatible avec les procédés de fabrication avancés.
Nature